공정·소자

포토레지스트(감광액)이란?

Photoresist

빛을 받으면 성질이 바뀌는 액체 재료예요. 웨이퍼에 바르고 빛을 쬐어 회로 모양대로 남기거나 녹여 내요.

노광 공정에서 사진의 필름 같은 역할을 해요. 빛의 파장이 짧아질수록 그에 맞는 새 재료가 필요해서 EUV용 감광액이 따로 개발돼요.

회로가 미세해질수록 선 가장자리가 울퉁불퉁해지는 문제를 줄이는 것이 재료 경쟁의 핵심이에요.

포토레지스트 특허, 얼마나 나오나

2021–2025년 미국 등록특허 1,451건. 2016–2020년 1,778건과 비교하면 -18%예요.

세는 법: 미국 등록특허 제목·초록(영문)에 photoresist이(가) 나온 특허. 등록 연도 기준이라 최근 몇 년 치 연구는 아직 덜 잡혀요.

2021–2025년 미국 등록특허를 특허 문서에 적힌 회사 이름으로 센 상위 10곳이에요. 상장 여부와 관계없이 모든 회사가 대상이에요.

특허 레이더 분석 대상 47곳만 놓고 본 2021–2025년 건수예요. 특허 수는 기술 활동을 보여 주지만 기술력이나 주가를 뜻하지는 않아요.