공정·소자

EUV(극자외선 노광)이란?

Extreme Ultraviolet Lithography

파장이 아주 짧은 빛(13.5나노미터)으로 웨이퍼에 회로를 그리는 노광 기술이에요.

회로를 그리는 빛의 파장이 짧을수록 더 가는 선을 그릴 수 있어요. EUV는 기존 불화아르곤(ArF) 빛보다 파장이 훨씬 짧아 여러 번 나눠 그리던 공정을 줄여 줘요.

EUV 빛은 공기와 렌즈에 흡수돼서 진공 속에서 거울로만 다뤄야 해요. 장비가 크고 비싸 첨단 로직과 D램 공정의 핵심 투자 항목이에요.

EUV 특허, 얼마나 나오나

2021–2025년 미국 등록특허 992건. 2016–2020년 947건과 비교하면 +5%예요.

세는 법: 미국 등록특허 제목·초록(영문)에 extreme ultraviolet, EUV이(가) 나온 특허. 등록 연도 기준이라 최근 몇 년 치 연구는 아직 덜 잡혀요.

2021–2025년 미국 등록특허를 특허 문서에 적힌 회사 이름으로 센 상위 10곳이에요. 상장 여부와 관계없이 모든 회사가 대상이에요.

특허 레이더 분석 대상 47곳만 놓고 본 2021–2025년 건수예요. 특허 수는 기술 활동을 보여 주지만 기술력이나 주가를 뜻하지는 않아요.